Nos systèmes de nettoyage UV sont compacts, conviviaux et performants.
Modulaires, ils peuvent être configurés spécifiquement sur commande pour des applications de nettoyage, décapage ou polymérisation.

Facile à utiliser et efficaces, ils peuvent utiliser, en fonction des modèles une combinaison entre rayonnement ultraviolet, ozone et chaleur, pour éliminer doucement, mais efficacement, les matières organiques sur une variétés de substrats comme le silicium, l'arséniure de gallium (GaAs), le saphir, le métal, le céramique, le quartz et le verre.
Polyvalents, nos systèmes s'adaptent à une variété d'applications.

Tous nos systèmes sont certifiés CE

Applications (en fonction des modèles)

Suppression de la contamination organique

Pré-nettoyage de plaquettes (par exemple nettoyage d'un substrat en saphir avant le processus de dépôt de HgCdTe)

Suppression de résidus sur une résine photosensible ou sur une surface composée de polyimides

Modification de surfaces afin d'obtenir une meilleure adhérence

Nettoyage final avant un collage moléculaire

Séchage UV

Croissance de films minces d'oxyde stable (GE, Si)

Nettoyage de pointes AFM