titreSamco

La société Samco (Semiconductor And Materials COmpany) a été fondée par Osamu Tsuji en 1979.
En tant que pionnier et acteur principal dans le développement des processus de nettoyage UV-Ozone, de gravure, et de dépôt, notamment avec les techniques PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), LSCVD (Liquid Source Chemical Vapor Deposition), MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) et DLC (Diamond-Like Carbon), Samco a accumulé plus de 30 ans de connaissance et d'expérience dans ces domaines.

titreUV2

L'UV2 de Samco est un système de nettoyage Uv-Ozone compact, convivial, et de Haute performance. Ce système est modulaire, il peut être configuré spécifiquement sur commande pour des applications de nettoyage, décapage ou polymérisation.
Il intègre principalement un tiroir de charge et utilise une technologie brevetée pour répartir uniformément l'ozone et l'éclairage UV sur la surface de plaquettes ou d'autres substrats.
Il intègre également un contrôleur logique programmable et des verrous de sécurité pour protéger l'opérateur contre une explosion dangereuse due à la présence d'ozone et de l'éclairage UV.
L'UV2 est facile à utiliser et efficace : il utilise une combinaison unique entre le rayonnement ultraviolet, l'ozone et la chaleur, pour éliminer doucement, mais efficacement, les matières organiques sur une variétés de substrats comme le silicium, l'arséniure de gallium (GaAs), le saphir, le métal, le céramique, le quartz et le verre.
Le système est polyvalent, il s'adapte à une variété d'applications. En fonctionnant sous pression atmosphérique, il évite d'avoir la charge supplémentaire d'un système de mise sous vide.
L'UV2 est marqué CE et certifié UL.

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Dimensions : 610(W) x 572(D) x 426(H) mm
Longueur d'onde Effets
185 nm Absorbée par l'oxygène et les molécules organiques. Génère l'ozone et l'oxygène atomique. Casse les chaînes moléculaires des contaminants.
254 nm Absorbée par les molécules organiques et par l'ozone. Détruit l'ozone. Casse les chaînes moléculaires des contaminants.

Fonctions

    - L'UV2 s'adapte à une variété de tailles de plaquettes de 20cm de diamètre.
    - Compact, l'UV2 utilise un minimum d'espace pour un maximum de confort.
    - Etape de chauffage de l'échantillon afin d'accélérer le nettoyage / Taux de décapage.
    - Large intervalle de choix de température (Ambiante jusqu'à 300°C).
    - Processus entiérement sec, aucun risque de causer des dommages sur les circuits électriques.
    - L'UV2 opère sous pression atmosphérique, aucun système de mise sous vide nécessaire.
    - Un système de verrouillage du tiroir sécurise l'utilisation de l'UV2 qui ne démarre pas l'opération si le tiroir reste ouvert.
    - Un système automatique purge l'azote présent dans la cabine de l'UV2 après chaque opération de nettoyage UV.
    - Un catalyseur d'ozone ("tueur d'ozone") est intégré dans le système
    - La cabine de l'UV2 est étanche pendant le processus afin d'éviter une contamination de l'échantillon venant de l'air atmosphérique.

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Applications

    - Suppression de la contamination organique
    - Pré-nettoyage de plaquettes (par exemple nettoyage d'un substrat en saphir avant le processus de dépôt de HgCdTe)
    - Suppression de résidus sur une résine photosensible ou sur une surface composée de polyimides
    - Modification de surfaces afin d'obtenir une meilleure adhérence
    - Nettoyage final avant un collage moléculaire
    - Séchage UV
    - Croissance de films minces d'oxyde stable (GE, Si)
    - Nettoyage de pointes AFM


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